■ 真空镀膜设备(CVD/PVD)

 

真空镀膜设备(CVD/PVD)主要用于薄膜沉积工艺,是一连串涉及原子的吸附,吸附原子在表面的扩散及在适当的位置下聚结,在晶圆上沉积一层待处理的薄膜的过程。


产品列表

真空烤盘炉
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APCVD 常压化学气相沉积
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碳化硅单晶炉
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